Palette semi-conductrice RSiC à quatre colonnes pour porte-wafers
Le support de wafer RSiC représente une solution haute performance fabriquée en carbure de silicium (SiC) de première qualité. Ce support avancé à quatre colonnes résiste aux environnements thermiques et corrosifs extrêmes rencontrés dans la fabrication photovoltaïque, améliorant ainsi considérablement les performances des cellules et l'efficacité de la production.
Dans les procédés de fabrication des batteries TOPCon, le support de plaquette semi-conductrice joue un rôle essentiel lors des opérations de LPCVD et de recuit. Il assure la stabilité des plaquettes de silicium tout en garantissant la stabilité du processus thermique et l'uniformité des plaquettes. Ce support de plaquette RSiC contribue directement à l'amélioration du rendement de conversion des batteries grâce à un contrôle précis du processus et à une qualité de plaquette constante.
Le robuste support de wafer à quatre colonnes est également utilisé dans les systèmes de champ thermique des fours à lingots de polysilicium. Son exceptionnelle stabilité thermique et son faible coefficient de dilatation thermique améliorent considérablement la qualité des lingots de silicium et la productivité de fabrication.
PARAMÈTRES TECHNIQUES DU MATÉRIAU
Industries des semi-conducteurs/photovoltaïques | RSiC |
Pureté du SiC (%) | 99,9-99,99 |
Masse volumique apparente (g/cm3) | 2,65-2,75 |
Porosité apparente (%) | 15-16 |
Résistance à température ambiante (MPa) | 90 |
Résistance à 1300℃(MPa) | 100 |
Résistance de connexion du corps fritté (MPa) | 25 |
DÉTAILS DU PRODUIT
Le support de wafer RSiC atteint une pureté exceptionnelle grâce à une technologie de recristallisation avancée. Spécialement conçu pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs, de panneaux photovoltaïques et de LED, ce support de wafer semi-conducteur assure un maintien fiable des wafers et des substrats dans des conditions thermiques et corrosives extrêmes. Polyvalent, ce support de wafer à quatre colonnes affiche des performances exceptionnelles dans les procédés critiques, notamment le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la diffusion et le recuit.
APPLICATION
Le support de plaquettes RSiC offre des solutions complètes dans de nombreux secteurs de fabrication avancés, tirant parti de sa résistance supérieure à la température, de son immunité à la corrosion et de sa propreté exceptionnelle.
Fabrication de semi-conducteurs
Le support de plaquette semi-conductrice permet des étapes de processus critiques, notamment l'oxydation, le CVD par diffusion et l'implantation ionique.
Production photovoltaïque
Ce support de plaquettes à quatre colonnes prend en charge les processus LPCVD et de recuit pour les technologies de batteries TOPCon et HJT de nouvelle génération, contribuant directement à l'amélioration de l'efficacité énergétique et des taux de conversion.
Fabrication de semi-conducteurs et de LED de troisième génération
Le support de plaquettes RSiC soutient de manière fiable les substrats en saphir et en carbure de silicium pendant les processus épitaxiaux GaN et SiC, résistant aux atmosphères corrosives agressives, notamment l'ammoniac et le chlorure d'hydrogène, tout en permettant la production de dispositifs d'alimentation haute fréquence.
Applications avancées supplémentaires
Dans les secteurs émergents des matériaux énergétiques et de la recherche scientifique - notamment le frittage des matériaux cathodiques des batteries au lithium et le traitement thermique des matériaux nucléaires - le support de plaquette semi-conductrice démontre constamment sa résistance thermique exceptionnelle, son immunité à la corrosion et ses performances ultra-propres dans des conditions opérationnelles extrêmes.
EMBALLAGE
NOTRE ÉQUIPE
Depuis de nombreuses années, l'entreprise s'engage dans la recherche et l'innovation en matière de produits en carbure de silicium tout au long de la chaîne industrielle. S'appuyant sur une technologie de pointe et une solide expérience en matière de fabrication de carbure de silicium, elle est dirigée par des talents hautement qualifiés issus d'universités et d'instituts renommés et a intégré de nombreux diplômés universitaires pour former une équipe de R&D de premier ordre. L'entreprise se consacre à la recherche et au développement de matières premières et de produits en carbure de silicium de haute pureté, posant ainsi les bases solides de son développement à long terme.
