Le support de wafer RSiC est un composant essentiel dans la fabrication de semi-conducteurs et les processus de croissance cristalline. Il est spécialement conçu pour supporter les wafers de silicium ou les substrats en carbure de silicium dans des environnements à haute température. Ce support de wafer essentiel de 30 cm offre un support fiable lors des différentes étapes du traitement thermique.
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Le support de plaquettes RSiC est un support clé dans la fabrication de semi-conducteurs et les processus de croissance cristalline, principalement utilisé pour transporter des plaquettes de silicium ou des substrats en carbure de silicium dans des environnements à haute température. Le support de plaquette semi-conductrice présente des avantages tels qu'une pureté élevée, une résistance à haute température (supérieure à 1600 °C), une résistance à la corrosion acide et alcaline, un faible coefficient de dilatation thermique et une conductivité thermique élevée.
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